三星宣布将全面推进EUV工艺帮助量产DDR5内存

　　随着制程节点迈入7nm，EUV极紫外光刻工艺将在未来的半导体芯片制造上成为主流。近日，三星宣布将率先为DRAM内存颗粒生产引入EUV工艺。

　　三星表示，将从第四代10nm级（D1a）DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV，2021年大规模量产的DDR5和LPDDR5内存芯片将因此受益，预计会使12英寸晶圆的生产率翻番。

　　根据三星此前判断，EVU工艺将帮助其将制程节点 推进到3nm，那么在未来7nm、5nm制程节点上，EUV将发挥极大作用。

三星星曜930SBE-K03 酷睿8代处理器，核芯显卡，触控屏，轻薄本

[经销商] 京东商城

[产品售价] 10499元

进入购买

三星星曜930SBE-K01 第八代英特尔酷睿i5，核芯显卡，触控屏，轻薄本

[经销商] 京东商城

[产品售价] 7999元

进入购买

（编辑：衡阳站长网）

【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容!